04/05/2011
L’impianto ionico è una tecnologia ormai consolidata nel mondo dell’elettronica. Nata nel 1954 per il drogaggio dei semiconduttori, questo processo permette l’impianto di ioni di diversa natura in un substrato solido cambiandone le proprietà fisiche.
I vantaggi di tale tecnica sono rappresentati dalla possibilità di realizzare profili di concentrazione molto precisi, controllando il numero di ioni impiantati e la loro profondità di penetrazione. Inoltre è un processo che avviene a temperature più basse rispetto alle altre tecniche di drogaggio e non produce reazioni chimiche potenzialmente inquinanti.
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